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有源矩阵有机发光二极管像素结构及其制造方法复审案

发明创造名称:有源矩阵有机发光二极管像素结构及其制造方法
复审请求人:北京京东方光电科技有限公司
申请号:200810226096.8
申请日:2008年11月6日
法律依据:中国专利法第22条第3款
决定要点:
        如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征,该区别技术特征未被其它现有技术公开,也没有证据表明该区别技术特征为公知常识,且其为所述技术方案带来了有益的技术效果,则该权利要求具备创造性。
一、案由
        国家知识产权局实质审查部门于2012年4月20日以权利要求不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。申请人(以下称请求人)对驳回决定不服,于2012年8月2日向专利复审委员会提出复审请求。在前置审查程序中,国家知识产权局实质审查部门仍坚持驳回决定。
二、决定的理由
        专利法第22条第3款规定:“创造性是指同申请日以前已有的技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型有实质性特点和进步”。
        申请人对权利要求做了修改,在权利要求1中加入从属权利要求2、3的部分附加技术特征和权利要求6的附加技术特征,构成新的独立权利要求1,并删除了权利要求4-6。
        合议组认为,修改后的独立权利要求1和对比文件相比存在以下区别技术特征:所述第一有源层、第二有源层、信号线、电源线、第一源电极、第一漏电极、第二源电极及第二漏电极在同一次构图工艺中形成。基于上述区别技术特征,权利要求1实际解决的技术问题为:提供一种替代的像素结构及像素中电源线的设置结构,并减少构图工艺次数、工艺步骤及器件厚度。对比文件2中没有公开上述区别技术特征,在同一次构图工艺中形成第一有源层、第二有源层、信号线、电源线、第一源电极、第一漏电极、第二源电极及第二漏电极对于本领域技术人员来说并非容易想到,且目前也没有证据证明其属于本领域的公知常识。因此,权利要求l相对于对比文件l也具备专利法第22条第3款规定的创造性。
三、决定
        撤销国家知识产权局于2012年4月20日对本发明专利申请作出的驳回决定。由实质审查部门以复审中修改的文本继续进行审批程序。